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  • 随着ICP-MS、GC-MS等痕量、超痕量 检测技术的广泛应用,人们发 现试剂不纯带来空白值高的问题已经制约了这些痕量检测技术的实际应用。同时,一些高纯的金属、半导体 和其他材料领域,也对试 剂的纯度提出了更高的要求。为此,人们开 始寻求各种试剂纯化...
  • 匀胶旋 涂仪具有匀胶效率高,使用方便等特点。其匀胶速度、时间分多个时段,并分别无级可调。面对众多的品牌,在选购 合适的匀胶旋涂仪时您可以关注哪些因素呢?1、旋转速度:转速的 快慢和控制精度直接关系到旋涂层的厚度控制和膜层均匀性。如果标示的转速和电...
  • 随着光 电子产业的迅猛发展,清洗工 艺在光电产品中是不会缺少的工艺,清洗对产品的质量、精度、外观等 方面的影响也越来越重要。如何保 证产品的高可靠性和高成品率,且同时 保证生产的安全性及生产过程中对环境的保护?那么,对使用 者来说选择高洁净度,且又具有...
  • 匀胶旋 涂仪快速启动和稳定的转速,能够保 证胶厚度的一致性和均匀性。主要用于微细加工、半导体、微电子、光电子 和纳米技术工艺中在硅片、陶瓷片 上匀胶等工艺与光刻、烘烤等设备配合使用。适用于半导体工艺,制版及 表面涂覆等工艺,可在科研、教育等单位作科研...
  • 紫外臭 氧清洗机在工作时是给臭氧发生器供电,臭氧发生器产生臭氧,由臭氧 泵通过臭氧管输送到洗菜机的洗涤桶中,在洗涤 桶中与水机接触,溶解在 水中形成臭氧水,臭氧水 具有很强的杀菌、消毒,降解农药作用。使用过 后可将产品表面清洗处理的均匀度一致,可彻底清...
  • 在面对 微波消解完赶酸过程中经常遇到的赶酸时间长、酸腐蚀 严重存在的问题,使用真 空赶酸系统可以把原来的赶酸时间从原来的3-4个小时缩短到30-40分钟之间,大大提高赶酸效率,并且通过碱液吸收,可避免酸气的腐蚀,杜绝污染。真空赶 酸系统采用集成式优...
  • 洁净的 样品前处理容器是获得可靠分析结果的前提。痕量分 析所使用的微波消解罐、常压消解罐、玻璃器皿(试管、烧杯、容量瓶等)等的痕量清洗,对于实验室人员来说,始终是 一个非常繁琐而又非常重要的挑战。使用酸 蒸逆流清洗器可以解决这些问题。酸蒸逆流清洗器...
  • 紫外臭 氧清洗机在现代信息技术行业中使用光清洗技术比较普遍,随着我 国工业现代化的发展,光清洗 和光改质技术还将逐步应用于金属、塑料、橡胶等工业生产领域。紫外臭 氧清洗机提供一种简单,经济,快速获 得超洁净的表面,去除大多数无机基材(比如石英,硅片,...
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